TFT teknolojisi 1990'lı yılında geliştirilmiştir. Büyük ölçekli yarı iletken tamamen entegre devre üretim teknolojisi için yeni malzemeler ve yeni süreçler benimsiyor. Sıvı kristal (LC), inorganik ve organik ince film elektrolüminesans (EL ve OEL) düz panel ekranlar için kullanılır. temel. TFT, üretim devreleri için gerekli çeşitli filmleri oluşturmak için sputtering ve kimyasal biriktirme işlemleri yoluyla cam veya plastik substrat gibi tek bir gofret değildir (tabii ki, bir gofret üzerinde de olabilir) ve büyük ölçekli yarı iletken entegre devreler (LSIC) filmler işlenerek üretilir. . Tek kristal olmayan yüzeylerin kullanımı maliyetleri büyük ölçüde azaltabilir ve geleneksel büyük ölçekli entegre devrelerin geniş alan, çok işlevli ve düşük maliyetli yönlere bir uzantısıdır. Geniş alan cam veya plastik yüzeylerde piksellerin (LC veya OLED) anahtarlama performansını kontrol eden TFT'lerin üretilmesi, silikon gofretlerde büyük ölçekli IC'ler üretmekten teknik olarak daha zordur. Üretim ortamı için gereksinimler (saflaştırma derecesi 100'dür), hammaddelerin saflığı için gereklilikler (elektronik özel gazın saflığı% 99.999985'tir) ve üretim ekipmanı ve üretim teknolojisi gereksinimleri yarı iletkenlerin büyük ölçekli entegrasyonunu aşmaktadır. Modern büyük ölçekli üretimin zirvesidir. Teknoloji. Başlıca özellikleri şunlardır:
(1) Geniş alan: 1990'ların başında ilk nesil geniş alan cam substrat (300mm×400mm) TFT-LCD üretim hattı üretime geçmiştir. 2000'in ilk yarısında, cam substratın alanı 680mm×880mm'ye genişletildi ve cam substratın boyutu 950mm×1200mm idi. Cam substrat da devreye alınacaktır. Prensip olarak, alan sınırlaması yoktur.
(2) Yüksek entegrasyon: Sıvı kristal projeksiyonu için kullanılan 1,3 inç TFT çip, milyonlarca piksel içeren XGA çözünürlüğe sahiptir. SXGA (1280,1×024) çözünürlüğe sahip 16,1 inç TFT dizi amorf silikonun film kalınlığı sadece 50nm'dir ve CAM VE CAM TEKNOLOJILERI ÜZERİnde TAB, IC'nin entegrasyonu, ekipman ve tedarik teknolojisi gereksinimleri ve teknik zorluk Hepsi geleneksel LSI'yi aşıyor.
(3) Güçlü fonksiyonlar: TFT ilk olarak sıvı kristallerin ışık valfi özelliklerini iyileştirmek için matris konum devresi olarak kullanılmıştır. Yüksek çözünürlüklü ekranlar için, 0-6V aralığında (tipik olarak 0,2 ila 4V) voltaj regülasyonu sayesinde, nesnenin hassas kontrolü elde edilir ve BU da LCD'nin yüksek kaliteli ve yüksek çözünürlüklü ekranlara ulaşmasını mümkün hale getirir. TFT-LCD, insanlık tarihinde ekran kalitesinde CRT'yi aşan ilk düz panel ekrandır. Ve insanlar sürücü IC'yi cam substrata entegre etmeye başlar ve tüm TFT'nin işlevi daha güçlü olacaktır, bu da geleneksel büyük ölçekli yarı iletken entegre devrelerle eşsizdir.
(4) Düşük maliyet: Cam substrat ve plastik substrat, büyük ölçekli yarı iletken entegre devrelerin maliyet sorununu temelden çözer ve büyük ölçekli yarı iletken entegre devrelerin uygulanması için geniş bir uygulama alanı açar.
